Китай приступил к массовому производству разработанных внутри страны установок иммерсионной глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV) — ключевой технологии для выпуска современных полупроводников, сообщает Reuters со ссылкой на источник, знакомый с проектом.

По данным агентства, организацией производства руководит государственная компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, в состав которой вошли команды нескольких китайских стартапов в сфере литографии. Этот шаг рассматривается как важный этап в стремлении Пекина снизить зависимость от зарубежных технологий.

Источник Reuters отмечает, что новая установка пока проходит дополнительные испытания и существенно уступает по возможностям оборудованию нидерландской компании ASML, которая сохраняет лидирующие позиции на рынке систем DUV-литографии.